في الرابع من يونيو، وفقًا لتقارير وسائل الإعلام، أعلن مركز أبحاث الإلكترونيات الدقيقة البلجيكي (IMEC) وASML عن إنشاء مختبر مشترك للطباعة الحجرية High NA EUV في فيلدهوفن، هولندا.
وبعد سنوات من البناء والتكامل الدقيق، أصبح هذا المختبر الآن جاهزًا بالكامل وسيوفر الدعم الفني المتطور للشركات العالمية الرائدة في مجال تصنيع شرائح المنطق والتخزين بالإضافة إلى موردي المواد والمعدات المتقدمة.
المعدات الأساسية في المختبر هي نموذج أولي لماسح ضوئي EUV ذو فتحة رقمية عالية (TWINSCAN EXE: 5000)، إلى جانب أدوات المعالجة والقياس المصاحبة، والتي ستساهم بشكل مشترك في تحقيق اختراقات في تصنيع الرقائق في المستقبل.
ويُنظر إلى افتتاح هذا المختبر المشترك على أنه علامة فارقة مهمة في عملية التحضير للإنتاج الضخم لتكنولوجيا الأشعة فوق البنفسجية عالية NA. تتوقع الصناعة أنه مع النضج المستمر لهذه التكنولوجيا وتعميمها، فإنها ستفتح تطبيقات الإنتاج الضخم على نطاق واسع بين عامي 2025 و2026.
ومن الجدير بالذكر أن أسماء قد عرضت سابقًا علنًا أحدث جيل من آلات الطباعة الحجرية High NA EUV. تتميز آلة الطباعة الحجرية هذه بحجم ضخم يعادل حافلة ذات طابقين، ويصل وزنها إلى 150 طنًا.
نظرًا لحجمها الكبير وعملية التجميع المعقدة، تحتاج المعدات إلى التعبئة الفرعية في 250 قطعة شعيرية مسطحة منفصلة للنقل، مما يوضح التحديات غير العادية في عملية التصنيع والنقل.
على الرغم من ارتفاع تكلفة التصنيع لآلة الطباعة الحجرية High NA EUV، والتي يُقال إن سعرها يصل إلى 350 مليون يورو (حوالي 2.7 مليار يوان)، فإن قيمتها في مجال تصنيع أشباه الموصلات لا تُقاس. وسوف يصبح سلاحًا أساسيًا للشركات الثلاث الكبرى المصنعة للرقائق في العالم لتحقيق إنتاج واسع النطاق للعمليات المتقدمة أقل من 2 نانومتر.